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專利號:200810114304 |
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[主 附 圖] |
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含有碳納米管的電磁屏蔽材料及其采用化學鍍工藝的制備方法 |
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本發明公開了一種含有碳納米管的電磁屏蔽材料及其采用化學鍍工藝制備電磁屏蔽材料的方法,所述電磁屏蔽材料由碳納米管、金屬鐵、金屬鈷組成,其中電磁屏蔽材料中金屬鐵的質量百分比為5~10,金屬鈷的質量百分比為10~15,余量為碳納米管。采用化學鍍工藝制得電磁屏蔽材料厚度為2~3mm時的吸收強為30~40dB,頻寬為5~18GHz,電磁屏蔽材料的密度為2.2~3.0g/cm↑[3]。 |
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含有碳納米管的電磁屏蔽材料及其采用化學鍍工藝的制備方法
一種含有碳納米管的電磁屏蔽材料,其特征在于:由碳納米管、金屬鐵、金屬鈷組成,其中電磁屏蔽材料中金屬鐵的質量百分比為5~10,金屬鈷的質量百分比為10~15,余量為碳納米管。
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