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專利號:200810093274 |
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| [主 附 圖] |
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| 本發明描述了一種通過室部件引入處理流體的方法和系統。該室部件包括室元件，所述室元件包括處于所述室元件的供應側的第一表面和處于所述室元件的處理側的第二表面，所述處理側與所述供應側相反。此外，所述室部件包括螺旋通道，所述螺旋通道穿過所述室元件從所述供應側延伸到所述處理側，所述螺旋通道包括構造來接收處理流體的入口和構造來分配所述處理流體的出口。 |
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通過室部件引入處理流體的方法和系統
一種室部件，其被構造來耦合到處理室，所述室部件包括： 室元件，所述室元件包括處于所述室元件的供應側的第一表面和處于所述室元件的處理側的第二表面，所述處理側與所述供應側相反；以及 螺旋通道，所述螺旋通道穿過所述室元件從所述供應側延伸到所述處理側，所述螺旋通道包括構造來接收處理流體的入口和構造來分配所述處理流體的出口。
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