離子源 e-Mission
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, 通過技術完成電子的發射, 測量和束流控制, 廣泛應用于對靜電敏感和電介質材料領域.
離子源 e-Mission 模組化
模組化的設計有助于快速的更換維護, 節省成本. 耗材能在幾分鐘內進行更換, 超低的成本花費, 而且容易升級, 比如可以將浸入式燈絲的模式升級成非浸入式燈絲的模式.
離子源 e-Mission 功率控制
e-Mission 功率發生器通過嚴格的校準, 保障功率的發生, 測量和束流的控制, 因為電子束流的可控性可以實現負電荷的穩定性和可靠性.
離子源 e-Mission 模組
e-Mission 模組的選擇取決于工藝目標, 真空系統, 運行周期和工藝材料.
離子源 e-Mission 應用
通常被用于等離子器件的理化工藝, 離子束源的中和器以及安裝在磁控管陰極去改善濺射的能量, 同時也應用于分析儀器的電子源, 具體如下:
離子束中和器
等離子發生的離化
分析儀器中正相偏壓電荷的中和
磁控濺射中電子流的增強
離子源 e-Mission Filament 燈絲型
燈絲電子源是一款成本低廉的陰極和中和器, 燈絲被加熱到很高的溫度產生可發射的熱電子. 結構簡單容易安裝和使用, 可快速更換. 特別適合于快速回圈的工藝和執行時間較短的真空設備.
KRI 考夫曼離子源 e-Mission Filament
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Model
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HFx
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SHC 1000
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DSHC 1000
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Cathode
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Yes
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Yes
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Yes
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Neutralizer
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Yes
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Yes
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Yes
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Orientation
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Vertical /
Horizontal
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Vertical /
Horizontal
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Vertical /
Horizontal
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Regulation
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Emission
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Emission
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Emission
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立
Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項. KRi 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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上海伯東: 羅先生
T: +86-21-5046-1322
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